ASML校招进驻北京，赶快入场！

原创： ASML ASML阿斯麦光刻昨天

9月23日晚的北京，

什么最值得期待？

ASML校园宣讲会

地址如下图，千万别走错啦

这一晚将是莘莘学子们

与一家伟大企业命运重合的开端；

这一晚将会成为许多“追光者”

人生中第一次接触光刻机的高光时刻；

这一晚我们在文津酒店等你，

请追光的你来聊聊。

聊什么？

你知道让手机或智能电子产品性能越来越强悍的芯片是怎么制造出来的吗？

你知道光刻在此过程中是做什么的吗？

在芯片繁复的制程中，光刻（Lithography）无容置疑是核心的一环。（见上图“曝光”）

即在曝光（Exposure）过程中，半导体制造商通过ASML的光刻设备，使电路设计图影像通过雷射光作用得以微缩“刻”在硅晶片上，从而制造出体积更小、效能更高、成本更低的芯片。光刻的基本原理是在硅晶片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用雷射光（一般为紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩膜（mask）照射在硅晶片表面，被雷射光照射到的光刻胶发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶，最终实现了将电路设计图影像从掩膜(mask)到硅晶片的转移。