编者按：来自Gigaphoton的Tommy Oga介绍了下一代ArF光源 “GT65A”，ArF浸没式光刻是一项具有前景的光刻技术，能够满足严格的工艺控制要求，同时提供高效的产率。下一代光源的研发目标是能进一步提高芯片的产量、满足可制造性。E95％带宽是光源的关键参数。较低的E95％带宽能够提高成像对比度，从而在晶圆上实现更高的CD均匀性。
    报告介绍了最新的线宽压窄模块（line narrowing module，LNM），该模块能够减少光学元件和机械部件在激光照射期间的热效应，将E95％带宽从标准的300fm减小到200fm。此外，LNM中的新型光学设计使其的使用寿命从60 Bpls延长到110 Bpls。因此，GT65A能够最大程度地提高生产效率，为芯片制造商提供最佳的运营成本。
    报告介绍了GT65A光源的最新研发进展和性能。