【技术服务】薄膜应力测试:Toho FLX-2320-S薄膜应力计

 测试原理

在硅片等基板上附膜时,由于基板和薄膜的物理定数有异,产生应力,进而引起基板变形。由涂抹均匀的薄膜引起的变形的表现为基板的翘曲,而薄膜应力测量设备FLX-2320-S可从这个翘曲(曲率半径)的变化量测量其应力。

设备特点

(1)双光源扫描(可见光激光源及不可见光激光源),系统可自动选择zui佳匹配之激光源;

(2)系统内置升温、降温模拟系统,便于量测不同温度下薄膜的应力,温度调节范围为-65℃至500℃;

(3)自带常用材料的弹性系数数据库,并可根据客户需要添加新型材料相关信息至数据库,便于新材料研究;

(4)形象的软件分析功能,用于不同测量记录之间的比较,且测量记录可导出成Excel等格式的文档;

(5)具有薄膜应力3D绘图功能。

设备应用

设备可以精确测量多种衬底材料、金属和电介质等薄膜应力。

样品尺寸:可以测试小于8寸样品

测试图片

应力3D Mapping图

wafer形状2D图

 趋势图

温度测量

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