你不一定知道的日本半导体设备实力
原创
杜芹
摩尔芯闻
今天
随着
东芝
存储被美国贝恩资本收购,松下宣布退出半导体业务,日本在半导体芯片领域可以说基本上全盘失败。
虽然日本半导体业市占呈下滑趋势,但其在
设备
领域对全球影响力仍不容小觑。
你知道在2004年前,尼康曾占据
光刻机
市场超过50%的市场份额,被誉为“
设备
业界王者”吗?
在全球市占超过50%的
半导体
设备
种类当中,日本就有10种之多。
在电子束描画
设备
、涂布/显影设备、清洗设备、
氧化
炉、减压
CVD
设备
等重要前端设备、以划片机为代表的重要后道
封装
设备和以探针器为代表的重要
测试
设备环节,日本的设备企业几乎处于垄断地位。
半导体
设备
可分为
晶圆
处理
设备
、
封装
设备、
测试
设备和其他设备,在整个半导体设备市场中,
晶圆
制造
设备
大约占整体的80%,
封装
及组装
设备
大约占7%,
测试
设备大约占9%,其他设备大约占4%。
而日本的大大小小不同的
半导体
设备
厂商为全球提供了大约37%的半导体
设备
。
广为人知的巨头
根据美国半导体产业研究公司
VLSI
Research发布的2018年全球半导体出产
设备
厂商的排名中,在排名前15位的公司中,按地区划分,美国制造商有四家,欧洲制造商两家,韩国和中国各一家。
日本制造商是东京电子(
TEL
)第三,Advantest第六,SCREEN第七, KOKUSAI ELECTRIC位居第9位,
日立
高新科技位居第10位,
Daifuku
位居第14位,Canon位居第15位。
可以说日本企业在半导体出产
设备
业界的实力是有目共睹的。
2018年全球15大半导体
制造
设备
制造商。
销售单位为百万美元(来源:
VLS IResearch)
1963年以代理贸易起家的东京电子(简称东电),可谓是日本
半导体设备
国产化的见证者。
东电曾先后作为Fairchild、
英特尔
、
KLA
、
AMD
等半导体厂商在日本的
设备
代理商。
其实东电正是进军
半导体设备
领域是在1968年,这一年,东电与美国Thermco Products Corp合资成为
TEL
-Thermco Engineering ,并开始在国内生产
扩散
炉,东电也成为了日本第一家半导体
设备
制造商。
在合资取得美国的先进技术之后,东电于1976年开发出了世界上第一台高压
氧化
炉,1986年其生产的第一台立式
扩散
炉发货,根据
VLSI
Research公司数据,1989年东电的半导体
制造
设备
营收额突破6亿美元,登顶第一的宝座,并连续三年蝉联冠军。
此后的十几年,东电不断扩充产品线。
1993年东电开始销售
FPD
生产
设备
涂布机/显影机,1994年首批单晶片
CVD
系统问世,2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”,2006年第1万台立式热处理
设备
开始发货,2007年
晶圆
探测器的出货量达到2万台,2009年东电收购瑞士欧瑞康
太阳能
,进入
光伏
(PV)生产
设备
业务(不过2014年退出该项业务)。
东电的产品几乎覆盖了半导体制造流程中的所有工序,主要产品包括:
涂胶/显影
设备
、热处理成膜设备、
干法
刻蚀
设备
、沉积设备、清洗设备,封测设备。
其中涂胶/显影
设备
在全球占有率达到87%,在
FPD
制造设备
中,
刻蚀
机占有率达到七成。
从 2015财年开始,半导体制造已经成为东电发展的核心业务,占公司总营收90%以上。
爱德万测试
也是一家老牌
设备
企业。
1954年武田郁夫在东京的板桥区成立了
爱德万测试
Advantes,当时称为武田Riken Industries。
爱德万测试
的主要产品包括
自动化
测试
设备
、
SoC
测试
系统、内存测试系统、机电一体化测试系统等。
爱德万测试
可以说开创了日本
测试
界的的先河,研发出了多个“第一款”测试
设备
:
日本第一款电子
计数器
TR-124B、第一台振动
电容
超低电流
静电
计TR-81、第一台计算机控制的IC
测试
设备
、第一台
测试
仪LSI测试系统T-320/20,其1976年推出的T310 / 31作为全球唯一的生产
DRAM
测试
仪而在全球获得成功。
新产品的全面开花,使得
爱德万测试
踏进了多个领域。
1979年
爱德万测试
推出了数字
频谱分析仪
TR-9305,标志着该公司进入了音频/振动分析市场;
1983年TR-4511的推出助其打入了信号源市场;
1986年推出了包括TQ8345
频谱分析仪
在内的16款
光学
测量仪器,
爱德万测试
成功进驻
光学
通信市场;
1992年,通过推出业界最高分辨率的
LCD
驱动器
测试
系统G4350(用于研发)和G4310(用于批量生产),进入LCD测试市场;
2000年发布用于数码相机的CCD
传感器
的T8531
图像
传感器
测试
系统,重新进入图像
传感器
测试
市场;
2003年推出T7721先进的混合信号
测试
系统,进入汽车
设备
市场;
2005年进入掩模CD-
SEM
业务;
2013年收购美国公司W2BI.COM,进入无线
系统级
测试
市场。
除此之外,
爱德万测试
的多款产品广受业界采用,为其攻占市场份额立下了很大功劳。
1981年
爱德万测试
推出的TR-4172多功能“智能
频谱分析仪
”,被通信
设备
制造商广泛采用。
1983年其用于通信和消费类LSI
测试
的模拟测试系统T3700系列以及用于CCD
图像
传感器
测试
的T3155的推出,拓宽了
爱德万测试
在半导体
测试
设备
市场的份额。
到1985年,
爱德万测试
便成为全球领先的半导体
测试
设备
提供商。
目前,公司在
存储器
测试
设备
市场拥有50%以上的市场份额。
迪恩士(SCREEN)是世界上唯一生产线图像制版器材、电子原件
制造设备
的综合制造厂商,创立于1943年,其根源可追溯到1868年。
成立之初的SCREEN目的是建立他们原始的玻璃幕布业务,直到1974年开始扩展到电子领域。
1975年开发出
晶圆
刻蚀
机,SCREEN正式开启
半导体设备
制造之路。
从半导体生产
设备
开始,生产线不断向
晶圆
清洗
设备
、测量、
晶圆
图案检查以及直接成像系统蔓延。
尤其是在
晶圆
清洗
领域,2009年SCREEN在单
晶圆
清洗系统中获得了全球60%以上的份额,在涂布机/显影机,湿法
蚀刻
机和抗蚀剂剥离剂的
LCD
制造设备
市场上赢得了2008年全球最大的份额。
在图案检查和
液晶
制造设备
行业也拥有龙头地位。
KOKUSAI ELECTRIC的前身是
日立国际电气
,于2017年底作为非核心业务出售给了私募股权基金Kohlberg Kravis Roberts(KKR),从而离开了
日立
集团。
2019年7月,
应用材料
宣布将以22亿美元现金从KKR手中收购Kokusai。
制造半导体的最重要阶段是通过沉积和热处理形成薄膜。
KOKUSAI电气公司拥有一种新颖的下一代沉积技术——平衡控制沉积(BCD),BCD技术为先进的小型几何
设备
提供更低的温度处理和更严格的
过程控制
,同时保持非常高的生产力。
KOKUSAI电气公司生产的半导体
制造设备
利用了那些接近物理极限的世界一流的薄膜形成技术,例如
10nm
微制造技术,为快速发展的
晶圆
厂
设备
市场提供服务。
日立
高新科技的历史可追溯到1940年,2001年日立仪器集团和半导体
制造设备
集团合并后,公司名称更改为
日立
高科技公司。
在
半导体设备
领域,主要生产干
蚀刻
系统和CD-
SEMI
和缺陷检查系统。
这些
设备
广泛应用于
大规模集成电路
、
功率
器件
和
声表面波
滤波器
、
CMOS
图像
传感器
、
微机电
系统
和其他(硬盘和
平板
显示器
)。
大福集团创于1937年,最早生产气锤、锻压加工机,随着日本经济的复兴与发展,开始涉足物料运输及管理物流。
大福的洁
净室
存储、搬运系统被广泛应用于半导体、
液晶
等
平板
显示器
制造行业,在许多世界著名企业均有销售。
佳能成立于1937年,原名为精机
光学
工业株式会社,1984年,佳能推出首款步进式
光刻机
(stepper),2011年,佳能推出第一款用于后道的步进式
光刻
机FPA-5510iV,正式进入先进
封装
领域的光刻市场。
2016年,佳能推出更高分辨率和高套刻精度步进式
光刻机
FPA-5520iV,能满足扇出型
晶圆
级
封装
(
FOWLP
)
工艺
的严格要求,FPA-5520iV目前已投入FOWLP量产、下一代精细重布线层(fine-RDL)和FOWLP研发。
佳能的
FEOL
(
生产线前道工序
)产品阵容强大,包括深紫外光(DUV)扫描式
光刻机
FPA-6300ES6a和I线步进式
光刻
机FPA-5550iZ2,得益于其高生产率和低成本的优势而受到
存储器
制造厂商的青睐。
佳能的关键优势之一是产品覆盖半导体前道市场和半导体后道市场,产品组合广泛。
加上在前道技术开发过程中积累了宝贵的经验,在开发后道产品时可借鉴早期平台研发的经验,并利用经过
验证
的专有
光学
制造技术,不断改进
光刻
系统的性能。
尼康成立于1917年,最早通过相机和
光学
技术发家,1980年开始半导体
光刻
设备
研究,1986年推出第一款
FPD
光刻
设备
,如今业务线覆盖范围广泛。
2004年之前,尼康占据
光刻机
市场超过50%的市场份额,被誉为“
设备
业界王者”。
但后来再关键技术路线上选择错误,使得一众客户倒戈AML,尼康从
光刻机
王者宝座跌落。
尼康虽然在芯片
光刻
技术上远不及
ASML
,目前的产品还停留在ArF和KrF光源,且售价也远低于ASML,和
EUV
更加难以相提并论。
但在
FPD
光刻
方面,尼康优势凸显,尼康的机器范围广泛,从采用独特的多镜头投影
光学系统
处理大型面板到制造智能
设备
中的中小型面板,提供多样化的机器。
“小”公司实力超群
除了上述大企业以外,日本在小企业的在
半导体设备
领域发展也很不错,
光罩
检测领域的laserTec、
OLED
真空蒸发
设备
的佳能Tokki、积极开发
EUV
光刻
技术的Gigaphoton、专注半导体前后制程
设备
的Shibaura,以及作半导体
自动化
设备
的Muratec和电子光束
光刻
的JEOL在各自的领域都小有所成。
1960年内山靖(Yasushi Uchiyama)成立了东京ITV实验室,从事X射线电视开发。
1962年NJS公司成立并开始探索除X射线电视之外的广泛技术开发。
1976年NJS开发并发布了世界上第一个LSI光掩模检测系统。
1986年NJS公司更名为Lasertec公司,Lasertec核心业务的掩模检验系统和掩模坯料检验系统,还提供各种
晶圆
检验和测量
设备
,例如
光刻
工艺
检验系统和涂层厚度不均匀检验系统。
Lasertec提供的最先进的掩模检测系统,可促进
FPD
技术的创新。
佳能Tokki公司成立于1967年,2010年,佳能收购Tokki Corporation,以扩大其
OLED
制造设备
业务。
OLED
真空蒸发
设备
佳能Tokki主要为
OLED
市场和薄膜PV市场生产真空处理
设备
和工厂
自动化
系统。
佳能Tokki于1999年开发了第一个
OLED
批量生产系统,该系统通过一个系统处理OLED /
电极
材料
的沉积和
封装
。
在
OLED
蒸镀
机方面,佳能Tokki更是几乎垄断。
Gigaphoton成立于2000年,Gigaphoton一直在积极开发极紫外(
EUV
)
光刻
技术,其前身是小松公司,小松
激光
技术的历史可以追溯到1980年。
小松公司于1985年推出了日本第一台
准分子激光
器单元KLE-630,1987年推出了世界上第一台用于半导体
光刻
工艺
的准分子
激光器
单元KLE-630S。
2004年底,Gigaphoton推出了新的ArF
准分子激光
模型GT40A,该模型具有注入锁定谐振器,可以满足沉浸式ArF
光刻
工艺
的要求。
如今,Gigaphoton的
激光
光源已被包括日本在内的亚洲大多数半导体制造商采用,并在欧洲和美国也得到了迅速的接受。
Shibaura历史可追溯到1939年,主要生产半导体前工程以及后工程
制造设备
、
FPD
前工程以及后工程制造
设备
、真空应用制造设备、
激光
设备等。
不同于多数
半导体设备
厂,很难兼顾前、后段领域,SHIBAURA两大前后制程都可以兼顾,且都有很好的成绩。
其Flip Chip Bonder更是全球最大品牌,市占率遥遥领先对手。
美村(muratec)的前身是村田,村田机械创业于1935年,是日本具有代表性的机械厂商。
从发明空气捻接器以来,以占有世界第一市场分额的自动络筒机等纤维机械为首,先后广泛涉入了
机床
、信息
设备
、物流设备、面向
液晶
工厂/半导体工厂的
自动化
设备
等领域。
JEOL成立于1949年,前身是日本电子
光学
实验室有限公司。
JEOL已在三个领域开展业务:
科学和计量仪器,工业
设备
,医疗设备。
工业
设备
中,其
半导体设备
主要有电子束
光刻
系统(可变形状电子束光刻),电子束光刻系统(点束光刻)。
1967年其JEBX-2A电子束
光刻
系统完成,1982年其JEPAS-1000电子束计量仪器完成。
日本
半导体设备
何以崛起?
日本
半导体设备
的崛起,离不开日本芯片产业的基石。
从1955年
索尼
开始造半导体收音机开始,日本半导体产业起步。
此后存储一度成为日本的第一产业,尤其是
DRAM
。
日美芯片大战后,日本半导体芯片奠定了在全球的江湖地位,配套的日本
半导体材料
和
设备
也得以快速崛起。
日本芯片产业上演了“一人得道鸡犬升天”的大戏。
另外,随着日本本土半导体企业不断更新
设备
,驱使设备厂商不断提升技术,再加上日本政府领导的“官产学”一体化研发,政策大力支持。
技术和市场驱动两条腿走路,两者相辅相成使得日本得以在
设备
领域玩得风生水起。
1975年之前,日本的半导体制造装备基本从国外进口;
但到了1980年代初,70%以上的半导体制造装备日本已经实现国产化。
总体来说,日本目前在
半导体设备
方面的竞争优势,既是全球半导体产业优胜劣汰的结果,也是日本的工匠精神与市场结合的产物,正如上文提到的诸多具有悠久历史的
设备
企业,经过了数十载岁月的打磨,未来在相当长的时间内,日本在设备领域仍会保持优势。
福利
摩尔精英
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