近日，中芯国际的动作不断，除了花费17亿美元分别向泛林团体、应用材料、以及东京电子购买半导体设备之外，上周五，中芯国际深圳厂区一大型光刻机进厂。相关阅读：《中芯国际从荷兰进口的光刻机来了！》
从中芯国际的表态来看，他们持续采购设备的目的就是“继续扩大产能”，目前中芯国际急迫的产能除了8英寸之外就是14nm这样的先进工艺。根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法，14nm(包含改进型的12nm工艺)月产能将在今年3月达到4K，7月达到9K，12月达到15K。中芯国际的14nm产能在15K晶圆/月之后应该不会继续提升了，还有更新的工艺。
梁孟松表示，除了14nm及改进型的12nm工艺之外，中芯国际的N+1、N+2代工艺也会陆续在今年底开始试产，N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。
和N+2相比，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于性能及成本，N+2显然是面向高性能的，成本也会增加。N+1相当于台积电7nm低功耗、N+2相当于7nm高性能工艺级别，未来一两年将会是产能建设的重点，这也意味着，中芯国际即将跨入7nm工艺。众所周知，光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，为世界上最尖端的技术之一，目前只有少量国家掌握。
目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML、尼康(Nikon)和佳能(Canon)。荷兰的ASML是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半导体设备制造商之一，在最高端市场ASML大约目前占据80%的市场份额。据了解，上周五进厂的光刻机主要用于企业复工复产后的生产线扩容，该行判断本次搬入的机台将在大约5个月后投入生产（实际投入生产时间根据装机进度而定），扩产完成后深圳厂区8寸产能有望达到60k wpm （4Q19财报中为55k wpm），届时将为中芯国际深圳厂区增加约10%的营收。基本上可以明确的是，该光刻机并非最先进的EUV光刻机。但是在进入7nm节点之后，最先进的EUV光刻机却必不可少。2018年5月，中芯国际曾向荷兰ASML订购了一台最新型的EUV光刻机，价值高达1.5亿美元。在全球光刻机生产厂商中，荷兰的ASML是唯一一家能够生产EUV光刻机的厂商。EUV光刻机原计划在2019年初交付。不过，由于美国方面阻扰，这项交易至今仍未完成。
所以，中芯国际7nm工艺量产所采用的设备，目前还不确定其来源，从放出的消息来看，只能是认为中芯国际有把握在上半年把那该死的光刻机弄回来。在半导体领域，中国虽然是全球最大的市场，占了1/3左右的全球份额，但在顶级半导体工艺的核心技术上还落后了一大截，领先技术基本上掌握在了Intel、台积电、三星等公司手中。目前大陆重大晶圆制造厂主要有中芯国际、华虹半导体、长江储存、合肥长鑫。作为国内最大也是实力最强的晶圆代工厂，SMIC中芯国际是国内半导体制造行业追赶先进的关键所在，去年底他们量产了14nm工艺，并且在Q4季度贡献了1%的营收，在整体营收上全球位居第5位。量产14nm工艺也是中芯国际首次涉足FinFET工艺，当时被认为落后国际一流水平两代。如果中芯国际在今年第四季度实现7nm工艺的量产（哪怕是小规模的），那么也就意味着其正式追上了国际一流水平。同时，中芯国际面对的将是更加剧烈的国际半导体制造行业竞争。去年，三星电子宣布计划在2030年之前投资1160亿美元用于半导体业务。而台积电则计划在2020年投资160亿美元用于新工艺的研发，目前已经规划到了2nm，同时5nmEUV工艺也将在今年上半年量产。竞争对手加速投资升级工艺，也给中芯国际带来了巨大的压力。为了升级先进的制造能力，中芯国际今年的资本支出预计将达到31亿美元，而其年收入也仅为30亿美元左右。显然，中芯国际还有很长的路要走。据官网介绍，中芯国际集成电路制造有限公司及其控股子公司是世界领先的集成电路晶圆代工企业之一，也是中国内地技术最先进、配套最完善、规模最大、跨国经营的集成电路制造企业集团，提供0.35微米到14纳米不同技术节点的晶圆代工与技术服务。中芯国际总部位于上海，拥有全球化的制造和服务基地。在上海建有一座300mm晶圆厂和一座200mm晶圆厂，以及一座控股的300mm先进制程晶圆厂在建设中；在北京建有一座300mm晶圆厂和一座控股的300mm先进制程晶圆厂；在天津和深圳各建有一座200mm晶圆厂；在江阴有一座控股的300mm凸块加工合资厂。中芯国际还在美国、欧洲、日本和中国台湾设立营销办事处、提供客户服务，同时在中国香港设立了代表处。
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