传统隔离方法采用光耦来实现,据估算现在光耦隔离市场容量约为一年一百亿个通道,光耦隔离已经是非常成熟的方案,但光耦在应用上有很多限制,比如工作温度范围窄、外围电路复杂、体积大,以及寄生参数大和时序一致性差等缺点。
相对于光耦来说,数字隔离在可靠度、功耗、尺寸和集成度上都有非常明显的优势,因此一经推出就受到市场欢迎,近年来增长势头迅猛,抢占了不少原属于光耦隔离的市场,现在年市场出货量已经达到数十亿个通道,还在快速成长中。
电源产品的主要功能就是在不同电压标准之间进行变换,其高低压模块一般需要进行隔离处理,因此在电源产品中可以看到大量的隔离技术应用。很多工程师开始接触数字隔离时可能对具体应用方法并不清楚,纳芯微技术支持团队针对电源应用中的常见场景,例如快充适配器、GaN驱动、车载充电、二次电源和板内通信隔离等,进行了详细分析,对此感兴趣的,可以参考如下的文字解读,以及文末的视频教学。
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NSI812xD在塑封模块电源GaN驱动中的应用
开关电源产品为了减小体积、提升功率密度,会采用提高开关频率来减小磁性器件的体积,但是开关频率提高以后又会导致开关损耗的增加,MOS管的开关应力和EMI都会恶化,此时一般就会采用氮化镓来替代碳化硅。氮化镓器件没有体二极管,所以就没有反向恢复损耗,它的开关瞬态应力和EMI都会减小,同时,氮化镓器件的栅极和输出电容小,在高频工作场景下的开关损耗也会比传统的碳化硅要低,所以在高频应用中,一般会选择氮化镓做功率器件。
对驱动电路而言,传统分立电路因为寄生参数影响,驱动上升沿等振荡需要串联驱动电阻来抑制,但是驱动电阻的增加又会导致驱动延时增加,以及开关损耗增加;在高频工作场景下,这些影响会进一步放大。所以,氮化镓的制造厂家会选择把MOS管和驱动封装在一起,这样寄生参数可以大大减小,不需要驱动电阻也可以获得很好的驱动稳定性,同时又提高了MOS管基级的ESD耐压能力。
在高频氮化镓电源应用中,对数字隔离器的要求也会不同,比如要求传输的速率更快,共模瞬态抑制能力强,同时体积又要足够小。纳芯微DFN封装的数字隔离器NSi812xD可以满足高频氮化镓应用的所有要求,其应用在PFC电源上,可以实现四分之一端输出功率超过1.5千瓦,开关频率1.6MHz。
市场上常见的标准数字隔离器封装一般是SOIC8或者SOIC16,采用DFN封装的NSI812xD最主要的特点就是体积小。该芯片专门针对 I 类环境的电压产品,比如电压低于60V,或者是在密闭环境带塑封的模块,这类应用对隔离电压与爬电距离的要求相对较低,使用NSi812xD可以大大减小布板面积,同时 I 类产品的其他性能需求也都能用NSi812xD满足要求。
小米10配置的65瓦快充适配器设计优化
二次电源应用案例
AC/DC电源应用案例之PSU
AC/DC电源应用案例之OBC
板内通信隔离应用
用NSi3190实现母线电压采样
成本低,千颗单价只有NSi1300的53%;
面积小,根据绝缘要求不同,可以选择窄体或宽体封装;
带宽高,可以达到400KHz,一般隔离运放带宽为300KHz,因此NSi3190对电压前馈响应更快;
精度比NSi1300系列低,全温度范围为±2%。
隔离功率上报应用方案
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