Transphorm宣布,其第四代及以后的平台都将相应地被称为SuperGaN™技术。目前,SuperGaN系列已开发出两款通过JEDEC认证的器件。第一款为TP65H300G4LSG,是一颗650V GaN FET,采用PQFN88封装,导通电阻为240毫欧。第二款是TP65H035G4WS,同样为650V GaN FET,采用TO-247封装,导通电阻为35毫欧。这些器件目前正处于提供样品阶段,并将分别在第二季度和第三季度发布。它们的目标应用包括适配器、服务器、电信、广泛的工业和可再生能源。系统设计人员可以在Transphorm的4kW无桥式图腾柱AC-DC评估板TDTTP4000W066C-KIT中评估这项技术。
Transphorm公司的评估板TDTTP4000W066C-KIT
(图片来源Transphorm官网)
Transphorm的第三代器件于2018年6月推出,是当时市场上最高质量、最高可靠性的[Q+R] GaN FET。第三代漏极和源极PQFN88封装包括更宽的引脚以提高板级可靠性(BLR),从而增加多层印刷电路板(PCB)设计的可靠性。所提供的漏极和源极接头配置还可适应高侧和低侧开关位置。这在将大焊盘焊接到非开关节点时,可提供更强的辐射抗扰度。此外,对于工程师探索GaN驱动的表面贴装应用也提供了很大帮助。
在设计第四代产品时,Transphorm的工程团队借鉴了先前产品生产记录的经验,并不断追求提高性能、可制造性和降低成本,从而设计出归于至简又具备实质性改进的新产品。新平台专利技术的优势在于增强了Transphorm GaN固有的高性能,简化了组装和应用,这将是促成SuperGaN™品牌成功的催化剂。
提升了性能:第四代产品的效率曲线更平坦、取值更高,其FOM优异度(RON * QOSS)提高了大约10个百分点。
设计更简单:高工作电流下不再需要使用开关节点缓冲电路,简化了第四代产品在设计中的应用。
增强了抗浪涌电流的能力 (di/dt):消除了半桥中内置续流二极管功能对开关电流的限制。
降低了器件成本:第四代产品的设计创新和专利技术同样简化了器件的封装,从而降低了成本,使TransphormGaN的价格更接近于硅晶体管。
经过验证的稳定性/可靠性:第四代35毫欧FET的栅极稳定性和抗扰度与Transphorm第三代器件相同,均为+/- 20 Vmax和4 V。
Transphorm全球技术营销和北美销售副总裁Philip Zuk表示:
我们希望Transphorm的SuperGaN™ FET像硅基超结MOSFET的发展一样,继续影响下一代电力电子产品。通过提供更出色的性能,并提高用户的整体投资回报率,我们的第四代GaN平台正在其它功率等级上创造新的设计机会。我们能够在不牺牲可靠性的情况下减少损耗,并将初始设备投资降低到接近用户之前使用硅基产品时的水平,这表明,GaN在市场上的地位正在强化。
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