曾经的光刻机霸主：尼康营收暴减九成，裁员 700 人

受新型冠状病毒(COVID-19)肺炎疫情影响，导致数码相机销售惨，新品延后开卖，尼康(Nikon) 上年度营益暴减九成，相机事业陷入亏损，且 Nikon 预估相机事业今年度也恐无法摆脱亏损局面，将以海外工厂为对象裁员 700 人。

Nikon 28 日于日股盘后公布上年度(2019 年 4 月至 2020 年 3 月)财报：半导体(IC)用微影设备销售虽增长，不过因 FPD 微影设备销售大减，加上新冠肺炎疫情导致数码相机销售惨、新品延后开卖，拖累合并营收年减 16.6% 至 5,910.12 亿日圆，合并营益暴减 91.8% 至 67.51 亿日圆，合并纯益暴减 88.4% 至 76.93 亿日圆。

曾经的光刻机霸主

提到微影设备，大家都会想到光刻机。曾经Nikon，佳能(canon)等日系厂商是老牌光刻机霸主，不过后来被ASML后来居上。

在2011年时，《电子工程专辑》还报道Nikon雄心勃勃宣布其微影技术发展蓝图的新闻，当时他们与ASML还是针锋相对，互不相让。

当时ASML公司致力于将EUV技术推向22nm节点。但Nikon公司则力推其16或11nm节点设备(截图自EETimes Taiwan)

直到今天，半导体设备在尼康集团的收入中占比仍达38.8%，是第二大支柱。(图自：尼康官网)

80年代，日本光刻机还处于碾压美国竞争对手阶段，在硅谷成立的尼康精机，直接把战斗指挥部放到美国高科技行业的心脏。但是美资厂商铂金埃尔默(PerkinElmer)受Nikon冲击，份额从超过30%跌到不足5%，今天它已经完全放弃半导体设备业务，专注于健康检测设备。

而那时候IBM、AMD、德州仪器(TI)和英特尔(Intel)这些GCA的大客户，排着队跑到Nikon那拿货。Nikon和GCA各享30%的市场份额，这种一山二虎的局面没有维持多久，尼康就独自为王，占领超过50%的份额，一直到ASML崛起为止。

1984年，在Nikon春风得意的时候，ASML诞生在荷兰。

在这之前几年，飞利浦实验室研发出自动化步进式光刻机(Stepper)的原型，但对它的商业价值心里直敲小鼓，找P&E、GCA、Cobilt、IBM这些半导体界的大佬谈合作，没人愿意搭理。这时，荷兰一家叫ASM International的小公司主动要求合作。飞利浦犹豫了一年，勉强同意成立股权对半的合资公司，这就是后来的ASML。

飞利浦之所以愿意放低身价和一家名不见经传的小公司合作，原因有两个：一方面是飞利浦当时正和索尼主推更赚钱的CD，比小众的光刻机更有投资价值;另一方面，Nikon在光刻机市场只手遮天，老牌半导体设备厂商节节败退，雪上加霜的是，飞利浦当时正打算开始大规模裁员，糟糕的经济状况和恶劣的光刻机市场环境，使它不敢大手笔押注光刻机，因此与ASM International合作，不过是想占个坑观望而已。

穷困潦倒的ASML是如何翻身的?

ASML成立后，飞利浦没有拨付经费，甚至不提供办公室，31个员工就在飞利浦大厦外的简易木棚房办公。多年以后，ASML的CEO彼得·韦尼克(Peter Wennink)回忆公司初创时的境况，还忍不住说“穷困”。

在2000年之前的整个16年时间里，光刻机市场差不多都是Nikon的后花园，ASML占据的份额不超过10%。

直到时任台积电研发副总经理的林本坚提出“浸入式光刻技术”，利用现有成熟技术改造，给半导体设备制造商节省研发投入，并减小芯片制造商的导入成本。

“浸入式光刻”方案一出，基本上宣判了半导体界正在开发的各种“干式”微影技术方案的死刑，意味着此前投入巨量的资金和人力几乎打了水漂。美国、德国、日本等大厂们基本都拒绝采用，包括当时的Nikon。

但是作为新生力量的ASML表示愿意一试。

由于半导体芯片市场一直被摩尔定律驱赶，而英特尔又是摩尔定律的坚定支持者，“浸入式光刻”方案可以轻松突破157nm的障碍，产品出来后英特尔必将下单，加上台积电，ASML盘算着可以拿下两家龙头客户。

2004年，ASML和台积电共同研发成功全球第一台浸润式微影机。Nikon那一年也宣布采用干式微影技术的157nm产品和电子束投射(EPL)产品样机研制成功。

但ASML的产品属于改进型成熟产品，相对于Nikon的全新研发应用成本低，而且缩短光波比Nikon的效果还好(多缩短25nm)。结果，没人愿意买Nikon的产品，溃败由此开始，市场份额被ASML大口吃进。

2009年，ASML已经占据70%市场份额，Nikon则从行业老大变成小弟。Nikon的溃败，还间接拉低了日本半导体芯片厂商的竞争力，它们基本上都采用Nikon的光刻机。ASML的崛起，则直接带动台积电上升，并达到今天的高度。

Nikon被美国强行踢出“EUV朋友圈”

在和ASML关于“浸润式”和“干式”投影的技术路线争斗中，Nikon只是打了一场败仗，而让它真正一败涂地的，还是在EUV光刻机的研发中，被美国直接排除在外。

在 “浸润式光刻”方案中，光源采用波长为193nm的氟化氩激光。随着摩尔定律的推进，氟化氩激光的潜能很快被“浸润式光刻”榨干，半导体界需要寻找新的光源。

高功率二氧化碳激光器看起来非常适合，它发射的极紫外光波长为13.5纳米，仅为氟化氩激光193nm的1/14，前途简直不可限量。不过，极紫外光也不好伺候，比如：容易被许多材料吸收，需要在真空环境曝光;真空环境带来洁净度挑战;过短波长易产生绕射，进而造成掩膜、晶圆边缘过度曝光，带来良品率下降问题。

总之，新的光源带来一大堆新问题，其实这也是193nm氟化氩激光源一用就是几十年的原因。但极紫外光诱人的应用前景，促使摩尔定律的坚定拥护者英特尔早在1997年就开始下注，这也是Nikon悲剧的开始，ASML走运的起点。

英特尔和美国能源部共同发起成立EUV LLC组织，汇聚了美国顶级的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室等三大国家实验室，联合摩托罗拉(当时如日中天)、AMD等企业，投入2.25亿美元资金，集中了数百位顶尖科学家，只为研究一件事：极紫外光刻机到底可不可行?

考虑到美国光刻机公司日渐衰落，为避免ASML(佳能当时已排在其后)和Nikon中的一家独大，英特尔于是邀请ASML和Nikon一起加入。但美国政府担心最前沿的技术落入外国公司手中，因此反对ASML和Nikon加入EUV LLC。

ASML对美国政府许下一大堆承诺后，勉强进入了EUV LLC这个超级朋友圈当一个小角色。

Nikon则直接被拒绝进入。

这次事件对两家公司在光刻机市场的未来发展产生了深远影响。

Nikon相当于被美国直接排除在极紫外光刻机门外，否则在后来“浸入式光刻”技术上慢一拍后，它还是有可能借极紫外光刻机扳回一局，和ASML继续竞争的。

日本一桥大学创新研究中心的教授中马宏之曾深入比较研究过ASML和Nikon两家公司，发现ASML的微影机零件，90%是外包制造，远远高于Nikon。换句话说，ASML采用的是“无生产工厂模式”，它更多的是设计和组装。

Nikon辛辛苦苦自研做光刻机，却因为美国一句话彻底无缘EUV。

老老实实做数码相机都不得安生

此后，数码相机事业和镜头成了Nikon最主要的营收来源。

但近年来受到智能手机冲击，数码相机市场加速缩小，且受新冠肺炎疫情影响，预估 2020 年 4、5 月的销售量将大幅萎缩，相机事业预估恐将连续第二年陷入亏损，因此Nikon计划祭出进一步结构改革措施，将以海外工厂(东南亚工厂)为对象裁员 700 人。

Nikon 表示，上年度影像事业(相机事业、包含数码相机和更换用镜头)营收年减 23.7% 至 2,258.94 亿日圆，营损额为 171.53 亿日圆(前一年度为营益 220.69 亿日圆);精机事业(包含半导体、FPD 微影设备)营收下滑 12.7% 至 2,397.28 亿日圆，营益大减 42.8% 至 467.74 亿日圆。

就产品销售量来看，Nikon 上年度数码相机(单反+轻便型机种)全球销售量年减 33% 至 246 万台，单眼机种销售量减少 21% 至 162 万台、轻便型机种骤减 48% 至 84 万台。上年度 Nikon 更换用镜头销售量减少 16% 至 265 万支。

上年度 Nikon IC 用微影设备销售量为 45 台(前一年度为 41 台)，FPD 用微影设备销售量暴减 61% 至 27 台(前一年度为 70 台)。

Nikon 表示，因新冠肺炎疫情影响，现阶段难合理估算业绩，因此暂缓公布今年度(2020 年 4 月至 2021 年 3 月财测预估。

日经新闻报导，Nikon 此次裁员对象为泰国工厂及寮国工厂，裁员人数分别为 500、200 人，相当于各工厂员工人数一成。

日本相机暨影像产品协会(CIPA)4月24日公布统计数据指出，因疫情冲击，民众减少外出、加上厂商工厂停工，拖累2020年3月份全球数位相机出货量(=日厂出货量)较去年同月腰斩(骤减52.2%)至59.75万台，连续第30个月呈现下滑，月出货量连续第3个月不到百万台、创2000年2月(44.97万台)以来新低纪录。

责编：Luffy Liu

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