IWAPS
2020
4th International Workshop on
Advanced Patterning Solutions
中国 成都
Nov. 5-6
第四届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions)将于11月5~6日在四川成都举办,本次会议特别邀请到了斯坦福大学H.-S. Philip Wong教授,荷兰纳米光刻高级研究中心主任Joost Frenken教授做特邀报告。
第四届国际先进光刻技术研讨会由中国集成电路创新联盟与中国光学学会联合主办,由中国科学院微电子研究所、中国科学院光电技术研究所、中科微电子产业技术西南研究院以及四川省经济合作局承办。IWAPS研讨会专注于高端光刻技术,为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。
Prof.Dr. H.-S. Philip Wong
黄汉森
斯坦福大学教授
台积电前研究副总裁
IEEE 会士
H.-S. Philip Wong博士于2004年加入斯坦福大学(Stanford University),担任电气工程教授,并在工程学院获得Willard R.和Inez Kerr Bell教授职位。2018年以来,他在全球最大半导体代工厂台积电(TSMC)公司担任研究副总裁,负责探索新一代半导体技术。1988年至2004年,他在IBM T.J. Watson研究中心任职,负责制定和执行IBM在纳米科学技术以及探索性硅器件和半导体技术方面的战略。
H.-S. Philip Wong博士是IEEE会士,曾担任IEEE Transactions on Nanotechnology主编(2005–2006),ISSCC的小组委员会主席(2003–2004),IEDM的总主席(2007),目前是IEEE Executive Committee of the Symposia of VLSI Technology and Circuits执行委员会主席。他是斯坦福大学非易失性存储器技术研究计划(NMTRI)的系主任,也是斯坦福SystemX联盟的创始系主任。
Prof.Dr. Joost Frenken
纳米光刻高级研究中心主任
阿姆斯特丹大学教授
荷兰皇家科学院成员
Joost Frenken博士是荷兰纳米光刻高级研究中心(Advanced Research Center for Nanolithography, ARCNL)的主任。ARCNL是位于荷兰阿姆斯特丹的一个公私合营的研究中心,其合作伙伴包括ASML、NWO、阿姆斯特丹大学和阿姆斯特丹自由大学。ARCNL目前的研究重点是对极紫外(EUV)光刻技术至关重要的物理和化学过程。Frenken博士是阿姆斯特丹大学和阿姆斯特丹自由大学物理系的教授,也是莱顿大学的客座教授。
从2007年到2013年,Frenken博士一直担任荷兰国家SmartMix联盟的科学主任以及荷兰NanoNextNL纳米成像和表征项目项目的发起人和主任。他还是是荷兰皇家科学院(KNAW)的成员,在多个国家和国际委员会和理事会任职,是荷兰晶体生长协会的前任主席,荷兰真空协会的前任主席,以及前荷兰国家物理学资助机构FOM凝聚态物质部的前任主席。
主 办 单 位
中国集成电路创新联盟
中国光学学会
承 办 单 位
中国科学院
微电子研究所
中科微电子产业
技术西南研究院
中国科学院
光电技术研究所
四川省
经济合作局
协 办 单 位
成都
工业学院
南京诚芯集成
电路技术研究院
技 术 支 持
IEEE电气和电子工程师协会
组 委 会
General Chair
Secretary General
Program Chair
International Advisory
Committee Members
论 文 征 集
IWAPS致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验,到工业化大规模量产的应用等内容。包括但不局限于:
- 光刻
- 极紫外光刻
- 新型技术
- 量测及缺陷检测
- 设计工艺联合优化与可制造性设计
- 材料
- 器件
- 工艺
会议投稿请提交至邮箱:
iwaps_program@ime.ac.cn
Call for paper
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2020.08.15 摘要提交截止 Abstract Deadline | |
2020.08.30 摘要接收通知 Abstract Acceptance Notification | |
2020.10.30 全文稿件截止 Manuscript Deadline |
接收的会议稿件择优将于《Journal of Microelectronic Manufacturing》上全文发表,并且给最佳论文作者颁发年度奖项。
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摘 要 要 求
摘要必须清楚地描述论文的性质、研究主题、研究内容、组织结构、要点以及研究意义。且用英文撰写。
摘要必须包括以下内容:论文标题、关键词、作者的姓名、所属单位、邮件地址和通讯地址。摘要的字数不应超过500个单词。对研究内容的细节的描述将增加稿件被接收的可能。同时,我们建议在提交的摘要中使用图表。
在截止日期之后提交的摘要将根据具体情况进行审议。
报 告 要 求
口头报告
被选作进行口头报告的作者,应当参加2020年的IWAPS 会议并用英文进行15分钟与论文相关的技术报告。演讲者应当预先提供其会议报告的PPT。
海报展示
被选作进行海报展示的作者,可于展示当日上午9点起张贴海报。展板上将印有按序排列的论文编号,请按论文编号将海报张贴在相应位置。会场将提供图钉用于海报张贴。
关 于 IWAPS
2017年IWAPS在北京
链接:首届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕
2018年IWAPS在厦门
链接:第二届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕
2019年IWAPS在南京
链接:第三届国际先进光刻技术研讨会胜利闭幕
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