双工件台，即在一台光刻机内有两个承载晶圆的工件台。两个工件台相互独立，但同时运行，一个工件台上的晶圆做曝光时，另一个工件台对晶圆做测量等曝光前的准备工作。当曝光完成之后，两个工件台交换位置和职能，如此循环往复实现光刻机的高产能 [1]。

在一套光刻系统里有两个硅片台，它们分别位于曝光位置和测量位置，两台独立且同时运行：当硅片台 1 在曝光位置进行步进扫描曝光时，硅片台 2 在测量位置完成硅片的上下片、硅片三维形貌测量等准备工作，当硅片台 1 完成整个硅片的曝光后，两台交换位置和职能，如此循环往复完成硅片的高效曝光。TWINSCAN双工件台光刻机的结构示意图如图1所示 [2]  。

图1 TWINSCAN双工件台结构示意图

图2 Nikon基于Tandem Stage的双工件台光刻机

双工件台的发明使光刻机的产能有了大幅度提高。传统的光刻机中只有一个工件台，晶圆的上下片、测量、对准、曝光都是顺序进行的；而在双工件台中，大部分测量、校正工作可以在另一个工件台上并行。先进光刻机要求有极高的对准精度，而对准精度与所需要的测量的对准标记数目成反比，即测量的标识越多，所能表达的对准精度越高。大量的测量必然导致单工件台光刻机的产能进一步下降。一般曝光的时间要大于测量和校正的时间，因此，在双工件台设计中系统可以做更多更复杂的测量，而不影响产能^[1] 。

参考资料

[1].韦亚一．超大规模集成电路先进光刻理论与应用．北京：科学出版社，2016：82-83
[2].李金龙. ArF浸没光刻双工件台运动模型研究[D]. 中国科学院研究生院(光电技术研究所). 2013：11-19.

彩蛋：全国产双工件台18吋晶圆涂胶设备，领先全球。目前已经进入实际量产阶段。

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