离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面,这个现象叫做溅射;而当离子束射到固体材料时,从固体材料表面弹了回来,或者穿出固体材料而去,这些现象叫做散射;另外有一种现象是,离子束射到固体材料以后,离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用,入射离子逐渐损失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、结构和性能发生变化,这一现象就叫做离子注入。 离子注入可分为半导体离子注入(掺杂)、材料改性注入(金属离子注入)和新材料合成注入。
(1)靶:被掺杂的材料。
(2)一束离子轰击靶时,其中一部分离子在靶面就被反射,不能进入靶内,称这部分离子为散射离子,进入靶内的离子成为注入离子。
高温离子注入机
注入温度范围:RT~500℃
注入晶圆大小:4英寸、6英寸
注入元素:铝 氩 磷 氮 硼
注入能量:10keV~960keV
倾斜角度(tilt):0~60度
旋转角度(twist):45度~135度
高能离子注入机
注入元素:氢 氦
注入晶圆大小:6英寸、8英寸
H离子能量:最高 1.5Mev
He离子能量:最高2.25Mev
倾斜角度(tilt):0~60度
旋转角度(twist):0~359度
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