【光刻系列讲座】 极紫外光刻光学技术简介
光刻系列讲座
极紫外光刻光学技术简介
王丽萍
主讲人：王丽萍
主持人：王向朝
报告题目：极紫外光刻光学技术简介
报告时间：12月1日 上午 09:30-10:30
报告地点：腾讯会议
会议 I D：723 621 244
光刻系列讲座
极紫外（EUV）光刻是⽬前国际最先进的投影光刻技术，⽀撑7nm以下节点极⼤规模集成电路制造。EUV光刻光学技术代表当前应⽤光学发展极限⽔平，本报告主要围绕该技术，简要介绍EUV光刻的发展历程及相关核⼼技术，重点介绍EUV光刻曝光光学系统关键技术。
主讲人简介
王丽萍
王丽萍，女，1981年出生，光学专业，理学博士。现任中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室研究员，中科院青年创新促进会会员。主要从事极紫外光刻光学技术研究，作为课题负责人承担02国家科技重大专项课题2项，近期发表SCI\EI检索论文10余篇，授权发明专利20余项。
主持人
王向朝
王向朝，男，中国科学院上海光学精密机械研究所研究员，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（02专项）总体专家组专家。获国际与国内授权发明专利160余项，在国际与国内光学与光刻领域主流期刊发表学术论文360余篇。培养博士研究生60余名（包含我国高端光刻机整机技术领域第一批博士研究生）。
《集成电路与光刻机》主要介绍了集成电路与光刻机的发展历程；重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等；简要介绍了计算光刻技术；最后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分系统的技术进步。本书可供光刻机相关领域的科研与工程技术人员，以及关注集成电路与光刻机的社会各界人士阅读。
中国光学学会光刻技术专业委员会（筹，以下简称光刻专委会）是中国光学学会的二级专业委员会，是由光刻技术领域的科技工作者和有关企事业单位组成，专业领域包括光刻相关的设备、材料、工艺、掩模、EDA软件和检测等，自愿结成并共建发展光刻技术事业。
欢迎大家加入光刻技术专业委员会（筹）
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为了促进光刻技术的繁荣和发展，促进光光刻技术的普及和推广，促进光刻技术人才的成长和提高，提高全民科学素质服务，现中国光学学会光刻技术专业委员会（筹）将开展系列主题科普报告活动，由于疫情等原因，活动形式暂时为线上视频讲座。