8月1日，晶瑞股份通过官微宣布，近期，陈韦帆先生正式加入公司光刻胶事业部，并担任总经理职务。

晶瑞股份介绍称，陈韦帆深耕于半导体行业近20年，在一家知名的光刻胶企业任职近10年，在高端光刻胶产品的技术研发、市场开拓及评价实施上拥有丰富经验。晶瑞股份表示，此次陈韦帆的加入将会大力提高公司在高端光刻胶的研发及市场推广的速度。

光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，高端产品的研发和生产主要由日系JSR、信越化学、东京应化等少数公司所垄断。

据悉，为加强光刻胶事业部整体实力，加快光刻胶产品推进速度，抓住行业发展的历史性机遇，近年来，晶瑞股份持续加大在G/I线光刻胶进一步扩大市场占有率、KrF光刻胶的产业化实施、ArF光刻胶的研发等方面的投入力度。

晶瑞股份8月1日在投资者互动平台上表示，公司G/I线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货；KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段；而ArF高端光刻胶研发工作也已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，满足当前集成电路产业关键材料市场需求。

来源：全球半导体观察

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