编者按：近期一场关于光刻胶的争论在业界引起极大热度，本公众号也做了相关内容的转载报导——《光刻胶大泡沫：板块市值5654多亿超过中芯国际“没一家能看的” 上交所问询华懋科技：是否存在炒作、内幕交易等情况》，同样也引起读者的大范围讨论：

同时还有观点认为，这场争论本身并不值得：

无论是基于技术、还是基于资本的观点可以说百花齐放，百家争鸣，本公众号编辑整理了部分观点，仅供各位参考：

1. 来自集微网的观点：

抛开各方立场，这场辩论所引发的对光刻胶自主化的进一步思考，对于当前炒作过热的半导体材料市场来说，是必要的也是适时的。然而，也正如国内某半导体设备头部企业曾对集微网表示，不可否认，半导体投资的泡沫确实存在，但也正是在这样的泡沫中，众多尚且弱小但有潜力的公司才能够被资本看见，获得脱颖而出的机会。大浪淘沙，不断的资本投入让更多产业链公司凸显出来，而严格的认证过程最终将造就可信赖的供应链，从长远来讲，资本市场“放水”，下游厂商认证“抽水”，两者并不矛盾，反而将成为合力，促进光刻胶自主化更加稳步、健康的发展。

2. 来自格隆汇研究的观点：

（1）半导体此次上涨跟之前上涨的逻辑略有不同，主要是其他板块的资金进入半导体领域，这部分资金更多是由短线资金组成，更重视择时，对选股的要求没那么高。因此选择光刻胶作为资金集中突破的方向也就很好理解了。

（2）由于光刻机稀缺的原因，光刻胶也是最稀缺和最吸引市场关注的材料，目前国内已经实现从0-1的过程，正在从1-100突破，但仍处于非常初级的阶段，今年以来进入了加速阶段，而未来实现更先进制程的国产替代则还需要时间。

（3）随着板块持续上涨，后面在光刻胶领域预计也将分化，如晶瑞股份、彤程新材、上海新阳、南大光电等业务主要在半导体光刻胶实现量产的将更占优，尤其是有大基金入局加持的南大光电会受到更多的青睐。

（4）而光刻胶板块的爆发，也将引起其他材料的机会，其他的材料在半导体制造中也同样中游，缺少了任一种材料或设备都将影响半导体的制造。需要强调的是在CMP抛光材料领域，国内的企业安集科技（抛光液，14nm已经量产，正在研发10-7nm）和鼎龙股份（抛光垫，28nm量产，研发14nm）这两家企业在制程上是走得最远的，基本能覆盖10nm以上所有的制程。也就是说，只要这两家有足够的产能，基本都能被国内的晶圆厂消化掉。

3. 来自智东西的观点：

光刻胶作为半导体、平板显示器和PCB制造环节中的关键材料，经过多年的发展，中国光刻胶技术已有突破性进展。在国家出台相关利好政策的背景下，中国光刻胶制造商在光刻胶研发技术上积极性革新，当前中国光刻胶的研发技术水平逐渐提高，在制造工艺技术和配方工艺领域积累了丰富经验，中国光刻胶行业正加速发展。未来，随着中国光刻胶企业对光刻胶的研发投入持续上升，光刻胶企业的技术水平将不断提高，中国有望打破国外企业在光刻胶市场的垄断格局，国产光刻胶有望迎来发展新机遇。

4. 来自知乎网友“私募投资心得”的观点：

“资本是没有原则的，资本的原则就是跟风，就像我在2020年初一日夜观天象，突然想到比特币如何才能吸引韭菜入场最后完成顺利的收割呢？于是当时得出了一个结论：比特币需要一波难以想象的上涨，才能彻底改变人们的预期。事实证明确实如此，我当时设想的是创新高后比特币达到2.5万美金就差不多可以洗一波了，没想到一口气涨到6.3万美金，超过了全球人们的预期，所以这波割韭菜应该是史无前例的。是国家级别的割韭菜，不亚于一场世界大战。而至于光刻胶板块是否持续，这个逻辑仍然适用，就是看目前投资者对光刻胶的态度，从舆论来看，显然还是没什么关注度的，仅仅是行业分析师比较看好，实体和民众还是有保守，从这个角度来看，光刻胶还会有一波比较大的行情。至于贵州茅台、宁德时代、比亚迪这一类巨无霸，很明显已经是明星效应了，宁德时代的股东人数从7万多户涨到了目前史无前例的18.27万户，平均下来每一户都有1.2万股，筹码度非常分散。同样，贵州茅台的持仓人数也从2019年的8.8万户上涨到目前的14.6万户，散户们要想解套，除非有天兵天将下凡，三一重工之所以下跌幅度这么大，原因就是股东人数从2020年9月的26万户一口气涨到年初的69万户，留下一堆散户在里面互相鼓励。这就是炒股的逻辑光刻胶虽然被怼跌了，但好的一点是目前散户的热点还在巨无霸龙头里面，这也是通过两年的上涨给散户洗脑造成的，所以未来的行情还是在科技股这边。”

5. 来自新材道的观点：

（1）长期以来，我国光刻胶产业发展缓慢，使得光刻胶原材料的开发缺乏动力和目标，造成当前光刻材料用原材料大部分依赖进口。光刻胶原材料也是影响纯度的核心因素之一。目前我国光刻胶用树脂基本上从美、日、韩进口；感光剂从日本进口为主，国内光刻胶产业链布局不完整。

（2）国产光刻胶企业想要实现突破，不仅面临原材料、纯度等难题，还面临强大的专利壁垒。受规模限制，国内主要光刻胶企业研发投入情况远低于同期国际企业。从专利申请数量看，截止2019 年“光刻胶”相关专利仍以外国申请人为主，占比达67%。从EUV光刻胶专利申请量来看，前10 位申请人中，有7 名申请人来自日本，专利申请数量占比高达90%，富士胶片以422件的绝对优势排在第一，TOP10中剩下的3家非日企业分别来自美国和韩国。而国内申请人不仅专利数量较少、且主要是研究院和高校。总体来说，光刻胶已经是一个相当成熟且固化的产业，先行者高筑专利壁垒，将后来者拒之门外。

（3）与半导体设计、半导体封测甚至晶圆产业相比，光刻胶是一个“小众”产业。根据TECHCET的一份预测数据显示，2021年整个半导体用光刻胶的市场只有19亿美元的规模。而这一市场又是高度集中，拿ArF光刻胶举例，日本的JSR、信越化学、东京应化、住友化学四家企业就占据了82%的市场份额，KrF光刻胶市场中，东京应化、信越化学、JSR和杜邦占据了85%的市场份额。与之相比的是，国内的光刻胶企业无论从技术还是规模上，都与巨头们有比较大的差距。南大光电和晶瑞股份是国内的光刻胶龙头企业，2019年，南大光电的营收为3.21亿元，净利润0.55亿元，同年晶瑞股份的营收为7.6亿元，净利润为0.31亿元，由此可见一斑。由于光刻胶的应用环境复杂且多样，有时甚至需要针对每个工厂进行特别定制，很难标准化和模块化，光刻胶从研发成功到进入客户验证阶段，并被大规模使用，中间所需要的时间都是按照年为单位计算。国产光刻胶研发成功之后，国内的下游企业是否愿意给国产光刻胶一个成长的机会对国产光刻胶产业的发展至关重要。

（4）以上种种难点，每一项都是国产光刻胶前进的阻力，并且还远不止这些。光刻胶国产化道阻且长。

6. 来自唯芯派的观点：

（1）作者对半导体行业国产替代化保持乐观的看法，但不认为能一口吃个胖子。科技的发展是需要遵照客观规律，脚踏实地进行。

（2）根据目前官方公开的信息，南大光电的ArF光刻胶目前可用于部分晶圆厂部分工艺中的部分步骤。这是国产ArF光刻胶好的开始，但如果因此把整个中国或者半个中国的ArF光刻胶市场都算成它的，做出这种预期可能会造成较大风险。

（3）警惕一些使用“可用于”概念的沸腾文章。无论是现在、过去还是将来都会有一大批文章说“7nm光刻胶”怎么怎么样、“7nm光刻机”怎么怎么样。从客观上说ArF光刻胶和ArF光刻机确实可用于制造7nm芯片，但目前也就台积电和英特尔能做到这点，使用DUV光刻机制造7nm（指这个水平的晶体管密度）芯片。这事就像高考吧，满分按750算，之前有两个高考状元确实考到了750。现在有一个成绩一般的学生说我高考也能考到750,你说否定他吧？确实没有任何规定和政策阻止他考到750，理论上他确实可以考到750。但看他目前的学习水平吧，希望不大。就像你看到一篇文章标题是“7nm工艺光刻胶通过客户验证”，乍一看标题以为国产光刻胶崛起了。仔细往里一看，通过验证的光刻胶可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。事情好像有些不对。最后再一核实相关公司发布的公告原文，原来这回通过客户验证的只是55nm。

（4）短期内的股价可以靠沸腾，技术发展必须靠脚踏实地，国产替代还需要比较长的时间。

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