8英寸晶圆电镀工艺技术开发及代工

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什么是电镀

电镀是一种电化学过程,也是一种氧化还原过程.电镀的基本过程是将零件浸在金属盐的溶液中作为阴极,金属板作为阳极,接直流电源后,在零件上沉积出所需的镀层

电镀工艺是绝大多数行业在生产过程中重要组成部分。电镀工艺广泛应用在生活中各种领域,用的相对较多的应该是防腐或改变性能:

防腐领域:如我们熟知的在空气中,铬很容易氧化而生成一层很薄的致密氧化膜。这层膜有很好的机械强度,并且透明,使金属铬能长时间保持光泽。铬的化学稳定性较好,很多酸对它不起作用,且具有很强的抗腐蚀性,也具有较高的硬度和耐磨性

提升改变性能:晶圆电镀晶圆是制造半导体芯片的基本材料,在晶圆加工工艺中,电镀金是应用广泛的一种工艺,在晶圆导电层上镀上一层金,具有导电性优异,稳定性好,易于打线键合、烧结等优点。

本次为大家介绍的是8英寸晶圆电镀工艺开发及代工服务,欢迎咨询!

8寸晶圆电镀

用于进行8寸晶圆电镀,适合电镀RDL或TSV;具有C和D电镀腔体,分别用于电镀Cu和Ni;A腔用于晶圆电镀前后的预湿和清洗。

工艺参数

电镀尺寸:8英寸

流量(L/min):14-28

转速(rpm):0-60

温度(℃):23-50

电流(A): 0.05-10 

Diffusion  plate:1.3mm、1.6-1.2mm 、1.8-1.4mm

Edge plate:185mm 、187mm、190mm 、192mm

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