【光刻系列讲座】 Inverse lithography technology
光刻系列讲座
Inverse lithography technology:
30 years from concept to practical, full-chip reality
庞琳勇（Leo）
主讲人：庞琳勇（Leo）
主持人：韦亚一
报告题目：Inverse lithography technology: 30 years from concept to practical, full-chip reality
报告时间：11月23日 上午 10:30-11:30
报告地点：腾讯会议
会议 I D：311 659 712
光刻系列讲座
整个半个多世纪以来半导体行业的飞速发展最主要归功于光刻技术的不断进步。光刻的进步离不开分辨率增强技术RET，而RET里面主要的就是光学邻近矫正OPC。Inverse Lithography Technology 反向光刻技术，是把整个光刻过程反解：根据你想要在晶圆上曝光的图形，通过数学上解反问题，找到在光罩上所需要的图形，被誉为OPC和RET的终极技术， 已被各大厂作为光刻核心技术之一所采用。作为业界ILT的奠基人和这一名词的发起人，本讲座会介绍ILT的历史、不同的技术路线、和目前已经量产的ILT技术。
主讲人简介
庞琳勇 （Leo）
庞琳勇（Leo）博士现任硅谷D2S, Inc.的首席产品官和执行副总裁。庞博士在硅谷有两次半导体行业的创业经历：Numerical Technologies在纳斯达克上市，之后被EDA龙头新思科技收购。Luminescent Technology朗明科技公司被Synopsys新思科技和KLA科磊收购。
庞博士毕业于中国科技大学，师从光测泰斗伍小平院士，获学士和硕士学位。提前一年毕业获全奖到斯坦福大学深造，获机械工程博士和计算机硕士。庞博士拥有38项专利，还有30项待批，有83篇论文在国际刊物和会议上发表，是国际光学工程学会SPIE的专家委员以及CSTIC中国国际半导体会议光刻分会主席，并任SPIE光刻期刊JM3的编辑以及深度学习专辑的主编。
主持人
韦亚一
韦亚一，中国科学院微电子研究所研究员，博士生导师，计算光刻研发中心主任。长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，取得了多项核心技术和丰硕成果，具有丰富的技术和管理经验。对半导体和纳米微制作、先进光刻、薄膜沉积、微测量理论和实践等有较深入的研究，有超过120篇的专业文献和多项美国专利。出版中英文专著3本。
中国光学学会光刻技术专业委员会
中国光学学会光刻技术专业委员会（以下简称光刻专委会）是中国光学学会的二级专业委员会，是由光刻技术领域的科技工作者和有关企事业单位组成，专业领域包括光刻相关的设备、材料、工艺、掩模、EDA软件和检测等，自愿结成并共建发展光刻技术事业。
欢迎大家加入光刻技术专业委员会
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“光刻技术专业委会”
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电话：01082995816（何老师）
邮箱：Litho_committee@ime.ac.cn
中国电子学会教育工作委员会
中国电子学会教育工作委员会是中国电子学会为发展教育工作设立的专业性指导机构。教育工作委员在中国电子学会常务理事会领导下，统筹推进、协调管理，通过技术培训、研究研讨、学科竞赛、能力测评，专业认证等多种形式，积极促进政产学研用有效衔接，发现、培育、凝聚面向世界科技前沿、面向经济主战场、面向国家重大需求、面向人民生命健康等各类各层次的人才，切实发挥全国学会的组织优势，推进中国电子学会教育工作，提升行业影响力。
为了促进光刻技术的繁荣和发展，促进光光刻技术的普及和推广，促进光刻技术人才的成长和提高，提高全民科学素质服务，现中国光学学会光刻技术专业委员会（筹）将开展系列主题科普报告活动，由于疫情等原因，活动形式暂时为线上视频讲座。